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                                        • UNIXX-SERIES德國osiris顯影機:DEVELOPER

                                          德國osiris顯影機:DEVELOPER,設計用于:顯影、清潔和干燥。晶圓顯影機在半導體制造和微納加工領域起著至關重要的作用,幫助實現微電子元件的精密制造和微米級結構的加工。

                                          訪問次數:95
                                          產品價格:面議
                                          廠商性質:代理商
                                          更新日期:2024-03-07
                                        • UNIXX S 30 D顯影機

                                          UNIXX S 30 D 顯影機是應用于顯影工藝的設備,適用的基板尺寸為2英寸到12英寸的 圓片和最大到9英寸x9英寸的方片。新設計的三片式可拆卸工藝腔體可實現良好的工藝 均勻性和重復性,設備也可用于清洗和旋干工藝。 UNIXX S 30 D的落地式柜體經專門設計,方便操作和維修。它是一款手動顯影機,適 用于實驗室開展科學研究和技術開發。設備具有多選項(例如可編程流體輸送臂)并且 可以升級成自動化

                                          訪問次數:679
                                          產品價格:面議
                                          廠商性質:代理商
                                          更新日期:2023-11-13
                                        • UNIXX S 20 D顯影機

                                          UNIXX S 20 D 顯影機是應用于顯影工藝的設備,適用的基板尺寸最大到8英寸的圓片 和最大到6英寸x6英寸的方片。新設計的三片式可拆卸工藝腔體可實現良好的工藝均勻 性和重復性,設備也可用于清洗和旋干工藝。 UNIXX S 20 D的落地式柜體經專門設計,方便操作和維修。它是一款手動顯影機,適 用于實驗室開展科學研究和技術開發。設備具有多選項(例如可編程流體輸送臂)并且 可以升級成自動化的系統

                                          訪問次數:584
                                          產品價格:面議
                                          廠商性質:代理商
                                          更新日期:2023-11-13
                                        • LCS半自動旋涂顯影刻蝕機

                                          LCS專為晶圓和平面基片的半自動旋涂和開發而設計,將是試點項目、研究所和研發的*。 它保證了高均勻性和可重復性以及簡單的操作和維護。 它可以處理最大 150 毫米的晶圓或最大 125x125 毫米的方形基片。

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                                          產品價格:面議
                                          廠商性質:代理商
                                          更新日期:2023-11-13
                                        • SCS112/SCSe124/SCSe126濕法顯影掩膜版清洗系統

                                          SCS112型是一款高效率手動型的濕法顯影掩膜版清洗系統,專門設計用于在劃片或劃片后清洗晶片,針對8英寸晶圓片。SCSe124/126型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案,針對10英寸晶圓片。

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                                          產品價格:面議
                                          廠商性質:代理商
                                          更新日期:2023-11-13
                                        • CESx124UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統

                                          UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統CESx124、126、128或133是理想選擇,可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底,不論是從小直徑還是非常大直徑。

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                                          產品價格:面議
                                          廠商性質:代理商
                                          更新日期:2023-11-13
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