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                                        咨詢熱線

                                        18971121198

                                        當前位置:首頁   >  產品中心  >  光刻膠  >  SU-8膠  >  2035/2050/2075/2100光刻膠SU-8 2000

                                        光刻膠SU-8 2000

                                        簡要描述:SU-8 2000是一種高對比度,基于環氧的光致抗蝕劑,設計用于微加工和其他微電子應用,需要厚,化學和熱穩定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進配方,多年來已被MEMS生產商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統可改善涂層質量并提高工藝產量。 SU-8 2000有十二種標準粘度。通過單道涂覆工藝可以實現0.5至&gt; 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯的部分不溶于液體顯影劑。

                                        • 產品型號:2035/2050/2075/2100
                                        • 廠商性質:代理商
                                        • 更新時間:2023-11-13
                                        • 訪  問  量:1712

                                        詳細介紹

                                        為了獲得大的過程可靠性,在涂覆SU-8 2000抗蝕劑之前,基材應清潔干燥。 為了獲得很好的結果,應使用食人魚濕法蝕刻(使用H2SO4和H2O2)清潔基材,然后用去離子水沖洗。

                                        基材也可以使用反應離子蝕刻進行清潔

                                        (RIE)或任何裝有氧氣的桶式灰燼。 通常不需要粘合促進劑。 對于包括電鍍的應用,建議使用MCC Primer 80/20(HMDS)對基材進行預處理。

                                        涂層

                                        SU-8 2000抗蝕劑有十二種標準粘度。 本加工指南文件涉及四種產品:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050和SU-82075。圖1。

                                        提供選擇合適的SU-8 2000抗蝕劑和旋轉條件以實現所需膜厚所需的信息。

                                        推薦節目

                                        1.)為基板直徑的每英寸(25毫米)分配1ml的抗蝕劑。

                                        2.)以100 rpm /秒的加速度在500 rpm下旋轉5-10秒。

                                        3.)以300 rpm /秒的速度在2000 rpm下旋轉30秒。

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