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                                        咨詢熱線

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                                        當前位置:首頁   >  產品中心  >  等離子清洗機  >  STAR系列等離子清洗機  >  PlasmaStar 200/200 RIE等離子刻蝕機

                                        等離子刻蝕機

                                        簡要描述:PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統的*功能。 腔室材料是硬質陽極氧化鋁, 有幾種不同的電極設計,包括用于反應離子刻蝕(RIE)和平面處理的水冷平板電極,用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極,用于小化離子損傷的下游電極,和用于普通的圓柱形籠式電極。

                                        • 產品型號:PlasmaStar 200/200 RIE
                                        • 廠商性質:代理商
                                        • 更新時間:2023-11-12
                                        • 訪  問  量:2739

                                        詳細介紹

                                        型號: 反應離子刻蝕機PlasmaStar 200/200RIE

                                        產地: 美國

                                        品牌: Axic

                                        環球供應,本地服務!MYCRO專業為您提供實驗室RIE反應離子刻蝕機設備,*的技術服務及售后,MYCRO值得您的的信賴!

                                        技術規格:

                                        型號

                                        PlasmaStar  100

                                        PlasmaStar

                                        100RIE

                                        PlasmaStar 200

                                        PlasmaStar 200RIE

                                        艙體尺寸

                                        直徑254×深度356mm

                                        直徑200×深度280mm

                                        305×高305×深406mm

                                        305 ×高200×深406mm

                                        艙體材質

                                        標配為陽極氧化鋁艙體

                                        常用氣體

                                        空氣,氧氣,氫氣,氬氣,氮氣,CF4,SF6等和其他混合氣體

                                        氣路控制

                                        標配2MFC,PlasmaStar  100多可選配4路,

                                        標配2MFC,PlasmaStar  200多可選配5路;

                                        控制系統

                                        電阻觸摸屏操作界面

                                        程序控制

                                        PC觸屏控制,可編程序,無線存儲數據

                                        射頻頻率

                                        13.56 MHz

                                        射頻功率

                                        0~600W瓦之間距連續可調,自動匹配

                                        0~1000W瓦之間距連續可調,自動匹配

                                        電極設計

                                        標準圓柱形籠式電極;

                                        標準圓柱形籠式電極;

                                        可選交替多層托盤電極;

                                        可選RIE平面處理水冷平板電極

                                        設備尺寸

                                         800 x 850 x 525mm;

                                        1033 x 850 x 635mm;

                                         

                                        產品咨詢

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